富士胶片正式发售全新 “FUJIFILM LTO Ultrium8数据流磁带”

2019-09-05

        富士胶片于9月2日正式发售 “FUJIFILM LTO Ultrium 8数据流磁带”（以下简称“LTO8”），支持磁带存储介质 “LTO Ultrium*1”第8代标准，是备份和存档大量数据的理想选择。 LTO8使用具有优异磁性并能够长期储存的微粒子“钡铁氧体（以下称为“BaFe”）磁性材料”，实现较大30 TB（未压缩时为12TB）的记录容量，是前代LTO7的两倍。此外，数据传输速度较高可达750MB /秒（未压缩时为360MB /秒），使用更便捷。该产品可以长时间、低成本、安全地存储大量数据，满足不断增长的数据存储需求。

        较近由于超高清4K、8K视频的出现、物联网及ICT的发展以及使用AI进行大数据分析的普及，世界上的数据量正在爆炸式增长。其中，数据生成一段时间后不再需要频繁调取的“冷数据”占所有数据的80％以上。近年来，包括“冷数据”在内，使用累积数据的需求迅速增长，长期、安全且廉价地存储这些数据的需求也越来越多。磁带不仅具有容量大、成本低、长期存储的特点，而且可以将数据存储保存于离线状态下，因此网络攻击导致数据损坏和丢失的风险很低。数据流磁带已常年为知名数据中心和研究机构服务。未来，它将有望活跃在大规模生成数据的尖端领域，例如使用AI和物联网实现高质量和高效率生产的智能制造、以及具有互联网连接功能的智能驾驶等产业。

        富士胶片开发出具有优异磁性并能够长久存储数据的微粒子“BaFe磁性材料”。2011年，富士胶片制造出世界上第一个使用“BaFe磁性材料”的磁带。2012年，首次发售“LTO Ultrium”标准下采用“BaFe磁性材料”的磁带LTO6。克服了当时主流的“金属磁性材料”容量增长的极限，富士胶片先于全球，首创使用“BaFe磁性材料”的磁带，并一直引领市场至今。

        此次全新发布的LTO8同样采用了“BaFe磁性材料”，升级了“NANOCUBIC技术”*2，将“BaFe磁性材料”进一步微粒子化并均匀地分散后涂布在磁带表面。涂层平滑且厚度均匀。除了实现30 TB（未压缩时为12 TB）的较大记录容量，为LTO7的两倍，还可以实现高达750 MB /秒（未压缩时为360 MB /秒）的高速数据传输。此外，通过优化材料设计，实现了磁头的高精度跟踪和优异的运行耐久性。可以稳定地读取和写入数据，更可靠安心。

        自2000年推出LTO1以来，富士胶片一直致力于开发高性能、高质量、大容量的磁带。除磁带外，富士胶片还提供数据存档存储系统，可根据访问频率在磁带和HDD上存储数据。将来，LTO8将与数据归档存储系统结合使用，以满足节能和大容量数据存储的需求。

        作为拥有世界较大份额*3的计算机磁带制造商，富士胶片开发并提供满足客户需求、可信赖的高性能、高质量的记录媒体及服务，致力于解决社会课题。

主要特点

（1）采用富士胶片独创的“BaFe磁性材料”，实现较大30 TB的记录容量

        富士胶片独特的“NANOCUBIC技术”*2再升级，将“BaFe磁性材料”进一步微粒子化并均匀地分散后涂布在磁带表面，涂层平滑且厚度均匀；此外还提升了记录密度，12.65mm的带宽可记录6,656条数据，从而实现了较大记录容量30TB（未压缩时为12TB），达到前代产品LTO7的两倍。

（2）方便可靠

        ①数据传输速度较高可达750MB /秒（未压缩时为360MB /秒），使用更便捷。

        ②高质量播放信号，低错误发生率。此外还优化了材料设计，实现了磁头的高精度跟踪和优异的运行耐久性，并且可以稳定地读取和写入数据，更可靠安心。

（3）可以低成本长期存储大量数据，是冷存储的理想选择

        与HDD相比，在存储海量数据的应用方面，总拥有成本更低。

        磁带可将大量数据保存于离线状态下，因系统故障、病毒感染、网络攻击等导致的数据损坏和丢失的风险很低，能够安全地存储重要数据。

        在日本电子信息技术产业协会磁带存储专门委员会披露的加速评估测试中，已经证实磁带可以稳定地存储数据超过50年。

       *1 Linear Tape-Open，LTO，LTO商标，Ultrium和Ultrium商标是Hewlett Packard Enterprise公司、IBM公司以及Quantum公司在美国和其他国家的注册商标。

       *2富士胶片独特的纳米薄层涂布型磁带技术，实现高密度磁记录。由实现磁性材料微粒子化的“纳米粒子技术”、均匀分散和排列细分磁性材料的“纳米分散技术”和实现超薄层涂布的“纳米涂层技术”组合而成

       *3生产者份额。本公司调查。